加熱制冷浴槽MD30-20(-30℃~90℃)可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥、半導體擴散爐擴散工藝控制,低溫測量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用。
MD40-30-加熱制冷循環(huán)器(-40℃~90℃)提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度±0.05℃。
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